真空電漿清潔

電漿清潔系統

大氣式、低壓式電漿清潔系統，有效去除擾人的殘膠

方便的樣品前置作業

•半導體封裝晶粒黏接前處理

•去除金屬和金屬氧化物

•清潔金屬接合表面

功率.時間.距離由您決定

•去除有機汙染物

•去除氟和其他鹵素汙染物

•改善旋塗膜附著力

•晶圓凸塊製程前之汙染物清除

AL 36 桌上型

作業空間 (DxWxH):	350x320x320 mm (AI)
尺寸 (DxWxH):	680x630x650 mm
電漿產生方式:	2.45GHz, up to 1200 W
真空氣源:	up to 15-65 m³/h

AL 76 落地型 / 桌上型)

作業空間 (DxWxH):	480x400x550 mm (AI)
落地形尺寸 (DxWxH):	800x1050x1800 mm
桌上型尺寸 (DxWxH):	780x770x780
電漿產生方式:	2.45GHz, up to 1200 W
真空氣源:	up to 250 m³/h (intergated)

無需等待，處理完即可馬上下一步作業

一步清潔所有組件表面，甚至空心組件內部

無須擔心化學溶劑對產品的傷害

不須儲存潛在危險的化學清潔劑

低運行成本

真空吸除被電漿分解的殘留物